一、考试内容

1、透射电子显微分析

1.1 透射电子显微镜的电子光学原理、结构和操作

电磁透镜的结构，成像原理和性能（像差，球差，色差，分辨本领，景深和焦长）；透射电子显微镜的基本构造和成像原理；透射电镜的明场、暗场图像操作及电子衍射操作。

1.2 电子衍射原理

倒易点阵、倒易矢量概念及有关的数学原理；布喇格衍射，结构因子，结构消光规律；

厄瓦尔德反射球原理；选区电子衍射原理，衍射花样的指数化；菊池衍射花样的产生原理。

1.3 薄晶体试样的衍射衬度(衍衬)成像原理

透射电子显微图像的衍衬原理；完整晶体衍射衬度的运动学和动力学理论分析及有关的数学原理；缺陷晶体衍射衬度的运动学和动力学理论分析及有关的数学原理；位错和层错的衍射衬度原理；等厚条纹，等倾条纹，倒易棒现象及其产生原理；第二相衬度的产生原理。

1.4 透射电子显微分析在材料研究中的应用

显微组织形态观察；物相鉴定；晶体学（位向关系，惯习面等）测量。

2、扫描电子显微分析

2.1高能电子束打到晶体试样上产生的各种信息；二次电子和背散射电子概念；

2.2 扫描电子显微镜的结构和工作原理；

2.3扫描电镜的放大倍率，分辨率和景深；

2.4扫描电镜的表面形貌衬度和原子序数衬度原理及其在材料研究中的应用。

3、X-射线衍射分析

3.1 X-射线产生原理，特征X-射线和连续X-射线概念；

3.2 X-射线在晶体中衍射原理，布喇格衍射定律；

3.3 X-射线衍射仪工作原理及X-射线衍射图谱的识别和应用；

3.4 X-射线衍射进行物相分析及内应力测量。

4、X-射线微区成份分析（电子探针微区成份分析）

4.1 X-射线微区成份分析中X-射线信号的发生；特征X-射线的性质；

4.2 X-射线微区成份分析的空间分辨率概念及其应用；

4.3 X-射线能谱仪和波谱仪的工作原理，以及二者分析性能（探测效率，峰值分辨率，探测灵敏度及探测轻元素能力等）的比较；

4.4 X-射线能谱图和波谱图的识别和应用；

4.5 X-射线微区成份分析的定性和定量分析原理及其在材料研究中的应用。

5、俄歇电子能谱分析。

5.1俄歇电子产生原理及其特点；应用俄歇电子进行定性和定量成份分析的原理；与X-射线能谱分析的比较；

5.2 俄歇电子能谱仪的结构，工作原理及操作；

5.3 俄歇电子能谱图的识别；

5.4 俄歇电子能谱仪在材料表面和界面研究中的应用。

二、考试题型（分值，按100分计）

1、 基本概念解释（1大题，20分）

2、问答题（7大题，每大题含若干小题，80分）

三、建议参考书（任选一本）

[1]《现代材料研究方法》王世中，臧鑫士主编，北京航空航天大学出版社(1991或较新版本);

[2]《材料现代分析方法》左演声，陈文哲，梁伟主编，北京工业大学出版社（2001）

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